400-6699-117轉(zhuǎn)1000
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誠信認證:
工商注冊信息已核實!參考報價: | 面議 | 型號: | EVG 320 自動化單晶圓清洗系統(tǒng) |
品牌: | EVG | 產(chǎn)地: | 奧地利 |
關注度: | 1031 | 信息完整度: | |
樣本: | 典型用戶: | 暫無 |
400-6699-117轉(zhuǎn)1000
EVG 320 Automated Single Wafer Cleaning System
EVG 320 自動化單晶圓清洗系統(tǒng)
自動單晶片清洗系統(tǒng),可有效去除顆粒
EVG320自動化單晶圓清洗系統(tǒng)可在處理站之間自動處理晶圓和基板。 機械手處理系統(tǒng)可確保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自動預對準和裝載晶圓。 除了使用去離子水沖洗外,配置選項還包括兆頻,刷子和稀釋的化學藥品清洗。
特征
多達四個清潔站
全自動盒帶間或FOUP到FOUP處理
可進行雙面清潔的邊緣處理(可選)
使用1 MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器(可選)進行高效清潔
先進的遠程診斷
防止從背面到正面的交叉污染
完全由軟件控制的清潔過程
EVG320技術數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)200、100-300毫米
清潔系統(tǒng)
開室,旋轉(zhuǎn)器和清潔臂
腔室:由PP或PFA制成(可選)
清潔介質(zhì):去離子水(標準),其他清潔介質(zhì)(可選)
旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成
旋轉(zhuǎn):zui高3000 rpm(5秒內(nèi))
超音速噴嘴:頻率:1 MHz(3 MHz選件);輸出功率:30-60 W;
去離子水流量:zui高1.5升/分鐘;有效清潔區(qū)域:?4.0 mm;材質(zhì):聚四氟乙烯
兆聲區(qū)域傳感器:可選的;
頻率:1 MHz(3 MHz選件)
輸出功率:zui大2.5 W /cm2有效面積(zui大輸出200 W)
去離子水流量:zui高1.5升/分鐘
有效的清潔區(qū)域:三角形,確保每次旋轉(zhuǎn)時整個晶片的輻射均勻性
材質(zhì):不銹鋼和藍寶石;材質(zhì):PVA
咨詢:182 6326 2536(微信同號)
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