PICOSUN?R-200高級(jí)ALD鍍膜設(shè)備

Picosun簡(jiǎn)介

Picosun是一家全球公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產(chǎn)設(shè)施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN?ALD設(shè)備專為高產(chǎn)量和高產(chǎn)量而設(shè)計(jì)，并且不斷發(fā)展以提高效率。

Picosun適應(yīng)性強(qiáng)其客戶包括最大的電子制造商，小型的創(chuàng)新型挑戰(zhàn)者以及全球領(lǐng)先的大學(xué)。 Picosun的組織機(jī)構(gòu)和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個(gè)客戶的需求。PICOSUN?研發(fā)工具具有獨(dú)特的內(nèi)置可擴(kuò)展性，可確保將研究結(jié)果平穩(wěn)過渡到大批量工業(yè)制造中，而不會(huì)出現(xiàn)技術(shù)差距。

Picosun的熱情在于創(chuàng)新。當(dāng)您想與設(shè)備制造商共同創(chuàng)建定制的ALD解決方案，從而引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展時(shí)，Picosun是您的合作伙伴。

Picosun獨(dú)特的突破性ALD專業(yè)知識(shí)可追溯到ALD技術(shù)本身的誕生。于1974年在芬蘭發(fā)明了ALD方法，并在工業(yè)上獲得了 。在高質(zhì)量ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)。高度敬業(yè)的Picosun人員擁有無(wú)與倫比的ALD經(jīng)驗(yàn)，并且為ALD的許多 做出了貢獻(xiàn)。

ALD主要應(yīng)用：

1.在集成電路上的應(yīng)用：Fin-FET和HKMG工藝在Si襯底上長(zhǎng)高K絕緣層HfO2，La2O3，Ta2O5，Al2O3等；電容器金屬電極；晶體管柵電極；TSV電鍍銅前長(zhǎng)阻擋層和種子層；

2.在顯示中的應(yīng)用：在Micro-LED中通過在溝槽中長(zhǎng)鈍化層來(lái)改善光散射性能；在OLED中低溫長(zhǎng)防水層。

3.在激光器和功率器件的應(yīng)用：VCSEL側(cè)面長(zhǎng)AlN、Al2O3保護(hù)層；GaN高頻器件T Gate刻蝕后去氧化層并鍍上保護(hù)層。

4.驗(yàn)證光刻膠性能：第三方實(shí)驗(yàn)室或者工廠FA部門，涂膠后通過低溫ALD鍍一層很薄的膜來(lái)保持住光刻膠的整體形貌，然后通過FIB+TEM等方法來(lái)驗(yàn)證光刻膠性能，如果不鍍膜直接上FIB或TEM會(huì)破壞光刻膠原有的形貌，無(wú)法獲得準(zhǔn)確的結(jié)果。

5.其他應(yīng)用：MEMS/SAW等做高均勻性鍍膜，鋰電池、醫(yī)療等行業(yè)等粉末鍍膜。

PICOSUN?R-200標(biāo)準(zhǔn)

PICOSUN?R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對(duì)象，例如透鏡，光學(xué)器件，珠寶，硬幣和醫(yī)療植入物。熱ALD研究工具的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者。它已成為創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的公司和研究機(jī)構(gòu)的首選工具。

敏捷的設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了最高質(zhì)量的ALD薄膜沉積以及系統(tǒng)的最終靈活性，可以滿足未來(lái)的需求和應(yīng)用。 的熱壁設(shè)計(jì)具有完全獨(dú)立的入口和儀器，可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝，適用于晶圓，3D對(duì)象和所有納米級(jí)特征上的多種材料。得益于我們專有的Picoflow?技術(shù)，即使在最具挑戰(zhàn)性的通孔，超高長(zhǎng)寬比和納米顆粒樣品上也可以實(shí)現(xiàn)出色的均勻性。 PICOSUN?R-200 Standard系統(tǒng)配備了功能強(qiáng)大且易于更換的液態(tài)，氣態(tài)和固態(tài)化學(xué)物質(zhì)前體源。與手套箱，粉末室和各種原位分析系統(tǒng)集成，無(wú)論您現(xiàn)在的研究領(lǐng)域是什么，或以后可能成為什么樣的研究領(lǐng)域，都可以進(jìn)行高效，靈活的研究，并獲得良好的結(jié)果。

PICOSUN?R-200高級(jí)

PICOSUN?R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對(duì)象，例如透鏡，光學(xué)器件，珠寶，硬幣和醫(yī)療植入物。

群集工具，Picoflow?擴(kuò)散增強(qiáng)劑，卷對(duì)卷室，RGA，UHV兼容性，N2發(fā)生器，氣體洗滌器，定制設(shè)計(jì)，用于惰性裝載的手套箱集成PICOSUN?R-200高級(jí)ALD系統(tǒng)是高級(jí)ALD研究工具的全球市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者，已有數(shù)百個(gè)客戶安裝。它已成為創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的公司和研究機(jī)構(gòu)的首選工具。

敏捷的設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了最高質(zhì)量的ALD薄膜沉積以及最終的系統(tǒng)靈活性，可以滿足未來(lái)的需求和應(yīng)用。 的熱壁設(shè)計(jì)具有完全獨(dú)立的入口和儀器，可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝，適用于晶圓，3D對(duì)象和所有納米級(jí)特征上的多種材料。得益于我們專有的Picoflow?技術(shù)，即使在最具挑戰(zhàn)性的通孔，超高長(zhǎng)寬比和納米顆粒樣品上也能實(shí)現(xiàn)出色的均勻性。 PICOSUN?R-200 Advanced系統(tǒng)配備了功能強(qiáng)大且易于更換的液態(tài)，氣態(tài)和固態(tài)化學(xué)品前體源。高效且獲得 的遠(yuǎn)程等離子選件可實(shí)現(xiàn)金屬沉積，而沒有短路或等離子損壞的風(fēng)險(xiǎn)。與手套箱，UHV系統(tǒng)，手動(dòng)和自動(dòng)裝載機(jī)，集群工具，粉末倉(cāng)，卷對(duì)卷倉(cāng)以及各種原位分析系統(tǒng)集成在一起，無(wú)論您現(xiàn)在或?qū)?lái)的研究領(lǐng)域如何，都可以高效，靈活地進(jìn)行研究，并獲得良好的結(jié)果稍后。

（*）等離子發(fā)生器技術(shù)特點(diǎn)：

遠(yuǎn)程血漿源安裝到裝載室并與反應(yīng)室連

出色性能的適用于不同化學(xué)性質(zhì)的藍(lán)寶石涂藥器

商用微波等離子體發(fā)生器，具有300 – 3000 W可調(diào)功率，2.45 GHz頻率

保護(hù)氣體在中間空間中流動(dòng)（無(wú)等離子體物質(zhì)的反向擴(kuò)散）

在相同的沉積過程中，等離子體和熱ALD循環(huán)的可能性，而無(wú)需對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行硬件更改

PICOSUN?P-300B

PICOSUN?P-300B ALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備（例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng)）以及各種3D物品（例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

PICOSUN?P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的 熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起，我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量，低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù)，確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少，市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow?擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝，在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN?P-300B ALD系統(tǒng)是專門為MEMS和3維零件生產(chǎn)中的批處理而設(shè)計(jì)的，例如機(jī)械零件，硬幣，鐘表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)元件和醫(yī)療設(shè)備，外科植入物和植入物的涂層設(shè)備（PicoMEDICAL?解決方案）。該系統(tǒng)速度快，可靠性高且易于維護(hù)。

PICOSUN?P-300BV

PICOSUN?P-300BV ALD系統(tǒng)是專門為生產(chǎn)LED，分立器件和MEMS設(shè)備（例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng)）而設(shè)計(jì)的。

PICOSUN?P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的 熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起，我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量，低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù)，確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少，市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow?擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝，在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN?P-300BV ALD系統(tǒng)代表了工業(yè)ALD的尖端。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于半自動(dòng)處理晶圓批次。該工具針對(duì)快速批量生產(chǎn)進(jìn)行了優(yōu)化，可以通過SECS / GEM選件集成到工廠自動(dòng)化中。帶有加熱選件的真空加載系統(tǒng)能夠?qū)γ舾谢倪M(jìn)行清潔處理，并沉積諸如金屬氮化物之類的材料。

PICOSUN?P-300S

PICOSUN?P-300S ALD系統(tǒng)是專門為生產(chǎn)IC組件（例如微處理器，存儲(chǔ)器和硬盤驅(qū)動(dòng)器）而設(shè)計(jì)的，并且還適用于MEMS設(shè)備（例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng)）。

PICOSUN?P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的 熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起，我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量，低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù)，確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少，市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow?擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝，在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN?P-300S ALD系統(tǒng)代表了工業(yè)ALD的尖端。該系統(tǒng)旨在與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)真空集群平臺(tái)結(jié)合使用，對(duì)單個(gè)晶圓進(jìn)行全自動(dòng)處理?？梢酝ㄟ^SECS / GEM選件將SEMI S2 / S8認(rèn)證的P-300S ALD系統(tǒng)集成到工廠自動(dòng)化中，它們可以滿足半導(dǎo)體行業(yè)最嚴(yán)格的清潔度要求。

PICOSUN?P-300S是IC創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)行業(yè)的首選ALD系統(tǒng)。

PICOSUN?P-1000

PICOSUN?P-1000 ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于批量噴涂各種3D物品，例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

PICOSUN?P-1000 ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于批量處理各種3維物品，例如機(jī)械零件，硬幣，鐘表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件和醫(yī)療設(shè)備，外科植入物和可植入設(shè)備（PicoMEDICAL?解決方案）在生產(chǎn)環(huán)境中。主要應(yīng)用包括各種鈍化層和阻擋層，以顯著提高涂層產(chǎn)品的性能和使用壽命。 PICOSUN?P-1000 ALD系統(tǒng)提供創(chuàng)新且靈活的設(shè)計(jì)，可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝，以優(yōu)異的均勻性，最高的產(chǎn)量，最小的系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間和較低的擁有成本，實(shí)現(xiàn)最高質(zhì)量的ALD沉積。

PICOSUN?P-1000 ALD系統(tǒng)可靠，快速且易于維護(hù)，代表了工業(yè)ALD的前沿。

PICOSUN?Morpher

PICOSUN?Morpher ALD產(chǎn)品平臺(tái)旨在顛覆Beyond和超越摩爾技術(shù)中的200毫米晶圓產(chǎn)業(yè)。它以領(lǐng)先的過程質(zhì)量，可靠性和操作敏捷性，實(shí)現(xiàn)了MEMS，傳感器，LED，激光器，功率電子器件，光學(xué)器件和5G組件的快速，全自動(dòng)，高通量生產(chǎn)。從公司研發(fā)到生產(chǎn)和鑄造制造的所有業(yè)務(wù)領(lǐng)域，Morpher都能適應(yīng)您行業(yè)不斷變化的需求和客戶的需求。基質(zhì)材料，基質(zhì)和批量大小方面的領(lǐng)先多功能性以及廣泛的工藝范圍，使Morpher真正成為可轉(zhuǎn)變的，包羅萬(wàn)象的制造設(shè)施，使您始終引領(lǐng)行業(yè)。

PICOSUN?Morpher設(shè)計(jì)用于結(jié)合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的單晶圓真空集群平臺(tái)來(lái)全自動(dòng)處理晶圓批次。革命性的獲得 的晶圓批量翻轉(zhuǎn)機(jī)制使該系統(tǒng)能夠與半導(dǎo)體生產(chǎn)線集成，在該生產(chǎn)線中，大多數(shù)處理都是在水平幾何結(jié)構(gòu)中進(jìn)行的，并且SEMI S2 / S8認(rèn)證可確保該系統(tǒng)與業(yè)界最嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)兼容。

PICOSUN?Morpher ALD系統(tǒng)可通過SECS / GEM協(xié)議集成到工廠自動(dòng)化中，而最先進(jìn)的軟件可通過直觀，精簡(jiǎn)的圖形用戶界面為系統(tǒng)提供簡(jiǎn)單，安全和無(wú)故障的操作。憑借我們獲得 的雙室，熱壁反應(yīng)器設(shè)計(jì)以及完全分離的前驅(qū)體導(dǎo)管和入口，我們可以創(chuàng)造出最高質(zhì)量的ALD膜，具有優(yōu)異的產(chǎn)率，低顆粒水平以及出色的電學(xué)和光學(xué)性能。緊湊的，符合人體工程學(xué)的設(shè)計(jì)以及便捷的維護(hù)，確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少，市場(chǎng)擁有成本最低。

 咨詢：182 6326 2536（微信同號(hào)）

PICOSUN原子層沉積設(shè)備ALD信息由北京亞科晨旭科技有限公司為您提供，如您想了解更多關(guān)于PICOSUN原子層沉積設(shè)備ALD報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息，歡迎來(lái)電或留言咨詢。

注：該產(chǎn)品未在中華人民共和國(guó)食品藥品監(jiān)督管理部門申請(qǐng)醫(yī)療器械注冊(cè)和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途