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工商注冊信息已核實(shí)!參考報(bào)價(jià): | 面議 | 型號: | EVG620系列單面/雙面光刻機(jī) |
品牌: | EVG | 產(chǎn)地: | 奧地利 |
關(guān)注度: | 1178 | 信息完整度: | |
樣本: | 典型用戶: | 暫無 | |
價(jià)格范圍 | 150萬-200萬 |
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EVG620系列單面/雙面光刻機(jī)
一、 簡介
EVG公司成立于1980年,公司總部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。
EVG620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備,可配置為半自動也可以為全自動形式。EVG620既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作150mm硅片的精確對準(zhǔn)設(shè)備;既可以用作研發(fā)設(shè)備,也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補(bǔ)償系統(tǒng)配以計(jì)算機(jī)控制的壓力調(diào)整可以確保良率和掩膜板壽命的大幅提升,進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。EVG620先進(jìn)的對準(zhǔn)臺設(shè)計(jì)在保證精確的對準(zhǔn)精度和曝光效果的同時(shí),可以大幅提高產(chǎn)能。
二、應(yīng)用范圍
EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域,涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應(yīng)用。
三、主要特點(diǎn)
u 雙面對準(zhǔn)光刻和鍵合對準(zhǔn)工藝
u 自動的微米計(jì)控制曝光間距
u 自動契型補(bǔ)償系統(tǒng)
u 優(yōu)異的全局光強(qiáng)均勻度
u 免維護(hù)單獨(dú)氣浮工作臺
u 高度自動化系統(tǒng)
u 快速更換不同規(guī)格尺寸的硅片
u 可選配Nanoalign技術(shù)包以達(dá)到更高的工藝能力
u 薄硅片或翹曲硅片處理系統(tǒng)可選
u Windows圖形化用戶界面
u 完善的多用戶管理(用戶權(quán)限、界面語言、菜單和工藝控制)
18263262536(微信同號);
EVG620系列單面/雙面光刻機(jī)信息由北京亞科晨旭科技有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于EVG620系列單面/雙面光刻機(jī)報(bào)價(jià)、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
注:該產(chǎn)品未在中華人民共和國食品藥品監(jiān)督管理部門申請醫(yī)療器械注冊和備案,不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途
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